高真空定向凝固系统--DHN400 参考价：面议
高真空定向凝固系统--DHN400真空室结构:圆筒形上开盖真空室尺寸::φ440x500mm极限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:无样品尺寸，温度:约p80m...
高真空单辊旋淬及喷铸系统--XC500 参考价：面议
高真空单辊旋淬及喷铸系统--XC500真空室结构:圆筒形前开门真空室尺寸:φ500X300mm极限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:样品尺寸，温度:感应熔炼1...
高真空电子東蒸发薄膜沉积系统--EB700 参考价：面议
高真空电子東蒸发薄膜沉积系统--EB700真空室结构: U形前开门真空室尺寸:700x700x900mm极限真空度:≤6.6E-5Pa沉积源:6个40cc坩埚样...
高真空电弧熔炼及吸铸系统--DHL400 参考价：面议
高真空电弧熔炼及吸铸系统--DHL400真空室结构:圆筒形上升盖真空室尺寸:φ400X320mm极限真空度:≤8.0E-5Pa沉积源:无样品尺寸，温度:占地面积...
高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD450 参考价：面议
高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD450真空室结构:球形前开门真空室尺寸:450mm极限真空度:≤6.67E-6Pa沉积源:2英寸靶材，4个样品尺寸，温度...
高真空电子東及热阻薄膜沉积系统--DZS500 参考价：面议
高真空电子東及热阻蒸发薄膜沉积系统--DZS500真空室结构:U形前开门真空室尺寸:500x500x600mm极限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:4个11c...
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500 参考价：面议
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500真空室结构:方形前开门真空室尺寸:p500x500x500mm极限真空度:≤3.0E-5Pa沉积源:永磁靶4套，2英寸...
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450 参考价：面议
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450真空室结构:圆筒形前开门真空室尺寸:φ450x400mm极限真空度:≤6.6E-6Pa沉积源:永磁靶3套，2英寸，可以...
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